复方阿莫西林油混悬液制剂胶体磨，阿莫西林油混悬液研磨分散机，阿莫西林微分团聚分散机，高产能胶体磨，14000rpm胶体磨，德国进口胶体磨，长时间运行胶体磨，管线式胶体磨

IKN研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

随着抗生素长期大剂量的广泛使用，细菌耐药性、药物残留等问题被普遍关注，并且多年来动物疾病愈发复杂，混合感染情况多，抗生素的合理的联合应用显得愈发重要。复方制剂是由两种或两种以上药物组成，如果配伍得当，可降低药物毒性、改善活性、扩大抗菌谱、减少用量，减少和延缓耐药菌株的产生等，对于单药无法治疗的混合感染也有很好的疗效。

解决阿莫西林容易降解、半衰期短、抗菌谱窄等诸多不足之处。本发明的新组方和制备工艺具有药物不降解，半衰期长，长效缓释，抗菌谱广，协同增效等诸多优点。适用于部分耐药菌株感染、混合感染疾病的需要。先将阿莫西林初步混悬液加入胶体磨，调节转速，胶体磨研磨粒径5-10um,将过胶体磨研磨好的溶液投入配液灌，加入剩余胶体液，定容，搅拌。过高压均质机混匀。便得到阿莫西林混悬液。

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前普通设备转速的4-5倍。

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素，研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到允许量的10%