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| 电询价格 | CMSD2000型号 | IKN品牌 | 台单位 |
多潘立酮混悬液胶体磨,医药卫生级改进型胶体磨 口服混悬液胶体磨,外用混悬液胶体磨,注射混悬液胶体磨,阿苯达唑混悬液胶体磨,安达铝镁加混悬液胶体磨,布地奈德混悬液胶体磨,布洛芬混悬液胶体磨,蒙脱石混悬液胶体磨,磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨
多潘立酮混悬液,也叫吗丁啉,为白色混悬液,味甜,用于消化不良、腹胀、嗳气、恶心、呕吐、腹部胀痛。对于混悬液药剂的制备国家有严格的规定:药物本身的化学性质应稳定,在使用或贮存期间含量应符合要求;混悬剂中微粒大小根据用途不同而有不同要求;粒子的沉降速度应很慢、沉降后不应有结块现象,轻摇后应迅速均匀分散;混悬剂应有一定的粘度要求。
混悬液中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)混悬液胶体磨CM2000三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。

混悬液胶体磨CM2000采用了三级错齿磨头定转子,磨头定转子间隙在0.2-0.7之间,间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙,在转速不变的情况下,间隙越小,速胶体磨研磨、分散效果会越好。故名思意,高速胶体磨有着非比寻常的转速,IKN工程师们通过改变皮带轮的传动比例,使原本只有3000rpm的电机,经过传动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明,在磨头定转子间隙不变的情况下,转速越高,高速研磨机研磨、分散效果越好。如果客户想要使物料达到更好的效果,我们提供丹弗斯变频器供客户选择,高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm,是国内设备转速的4-5倍,可谓是极速。混悬液胶体磨CM2000结构机理:由电动机、连接体、磨头等组成,磨盘采用优质不锈钢锻压制成,磨盘表面有三个以上沟槽,分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同,越是向外延伸一级,磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分:硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理,增强刀齿的硬度,起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节,其功效为剪切率大、线速度长、无死角、处理量大、均质细化效果好。
国内胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,通常情况,需要拆卸机器进行清洗。
本设备适合于各种不同大小的容器
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和#终产品的要求。
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