聚乙烯醇纳米复合膜材料高速研磨分散机，PVA高分子材料纳米分散机，改性高分子材料纳米分散机，未改性高分子材料分散机，德国进口超高速分散机，管线式高分子分散机，实验室小型纳米分散机

IKN研磨分散机能够实现自动控制，且操作简单方便，机器运行很稳定。机器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到全方位的清洗。

自从二十世纪以来高分子材料被首次提出，高分子材料的合成及加工得到了快速的发展与应用，从天然高分子到合成高分子，在日常生活中高分子材料起着不可替代的作用。随着科技的不断发展，人们对高分子材料性能和功能的要求越来越苛刻，传统的高分子材料已经很难满足要求，因此需要研究出新型的高分子材料来满足需求。

聚乙烯醇(PVA)是一种无毒、无腐蚀性、可生物降解环境友好型有机高分子聚合物，其性能介于塑料和橡胶之间，具有良好的亲水性、热稳定性和成膜性等，从而受到了研究者的青睐。PVA具有严格的线性结构，分子链中含有大量的侧羟基，分子间和分子内能形成大量的氢键，具有一定的机械强度和稳定的化学性质；由于PVA中存在大量的侧羟基，因此在水中的溶解性较好；此外，PVA有着良好的粘结性、成膜性和生物亲和性等优点，在黏合剂、膜材料、纤维材料、凝胶材料和生物医学材料等领域具有广泛的应用。

近年来，纳米技术的快速发展为改性PVA材料提供了有效的途径和方法，研究人员利用无机材料和天然矿物等纳米粒子改性PVA成为国内外的研究热点。这种以PVA为基质、纳米粒子为填料的复合膜材料，能同时兼备PVA和纳米粒子的特性，具有机械强度高、热稳定性优异且耐水性好等特点。

原本采用批次是超高速分散机，虽速度能达到2万转以上但不能长时间运行，运行个10-20分钟就得停下来休息，给设备散热，这个实验室效率带来了很大得困扰，还有就是想多做点料效果就会有很大得区别，很难实现工业化放大。但是依肯管线式研磨分散设备针对以上得问题特别设计可以24小时长时间运行，转速0-21000rpm可调，这个实验是各种物料行了很大得方便。实验人员操作起来也很省心。

CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

研磨分散机的特点：

1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

设备其它参数:

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%